激光退火装置及方法
- 申请号：CN201611110318.0
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号：CN106409733A
- 公开(公开)日：2017.02.15
- 法律状态：公开
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专利详情
| 专利名称 | 激光退火装置及方法 | ||
| 申请号 | CN201611110318.0 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN106409733A | 公开（授权）日 | 2017.02.15 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 张紫辰;王晓峰;潘岭峰 |
| 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I |
| 专利有效期 | 激光退火装置及方法 至激光退火装置及方法 | 法律状态 | 公开 |
| 说明书摘要 | 本发明提供的激光退火装置及方法，包括激光器，用于发射激光，形成所述激光退火装置需要的光源；光学系统，用于将所述激光器发射的激光整形为线形平顶光斑后，发射到样品表面；样品位移系统，用于盛放所述样品，并调整所述样品的位置。通过选择合适的激光波长可以使得有效加热深度位于样品表面以下数纳米至微米之间，提高了杂质的有效激活率，修复了器件在离子注入过程中带来的损伤，从而降低样品材料的方块电阻以及器件功耗。 | ||
交易流程
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专利 -
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