专利详情

专利名称	一种氮掺杂的孔状碳纳米片及其制备方法和应用
申请号	CN201610082979.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105776174A	公开（授权）日	2016.07.20
申请（专利权）人	中国科学院理化技术研究所	发明（设计）人	张铁锐;余慧军;尚露;吴骊珠;佟振合
主分类号	C01B31/02(2006.01)I	IPC主分类号	C01B31/02(2006.01)I
专利有效期	一种氮掺杂的孔状碳纳米片及其制备方法和应用至一种氮掺杂的孔状碳纳米片及其制备方法和应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开一种氮掺杂的孔状碳纳米片，该碳纳米片富含微孔和介孔结构，且氮掺杂量高。本发明还公开了此碳纳米片的制备方法：利用g?C₃N₄作为模板和氮源，以葡萄糖的水热产物为碳源，通过高温煅烧而成。本发明提供的碳纳米片具有形貌可控，丰富的孔结构，大的比表面积以及高氮掺杂含量的特点，在实际应用中具有重要意义。同时本发明还公开了富含孔结构且具有高氮掺杂量的碳纳米片作为非金属催化剂用于电催化氧气还原反应。