一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法
- 申请号:CN201610590627.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 公开(公开)号:CN106855895A
- 公开(公开)日:2017.06.16
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法 | ||
申请号 | CN201610590627.6 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106855895A | 公开(授权)日 | 2017.06.16 |
申请(专利权)人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明(设计)人 | 张学军;唐瓦;薛栋林;邓伟杰;尹小林 |
主分类号 | G06F17/50(2006.01)I | IPC主分类号 | G06F17/50(2006.01)I;G06F17/16(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I;B24B13/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法 至一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法,一、测量离子束流在距离离子源L处的离子浓度分布d0;二、通过去除函数实验获得所选定的离子源工作参数在距离L处的平面基准去除函数;并对去除函数进行标定,获得离子浓度与材料去除率的对应系数矩阵C;三、测量离子束流在距离离子源L处离子浓度分布da,计算得到与距离离子源L处离子束流浓度分布所对应的平面去除函数F;四、测量离子束流浓度空间分布并进行归一化得到离子束流空间分布矩阵Id;五、计算复杂曲面表面曲率半径变化对去除函数的影响获得矩阵ω;六、根据平面去除函数F、离子束流空间分布矩阵Id和矩阵ω,得到去除函数R;本发明能够对离子束抛光复杂曲面过程中去除函数的变化进行准确计算。 |
交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
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可交易 - 03 签订合同
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平台保障
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