一种适用于提升氟化钙凹锥镜粗糙度的磁流体加工工具及加工方法
- 申请号:CN201610530355.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN106181675A
- 公开(公开)日:2016.12.07
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种适用于提升氟化钙凹锥镜粗糙度的磁流体加工工具及加工方法 | ||
申请号 | CN201610530355.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106181675A | 公开(授权)日 | 2016.12.07 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 钟显云;李良红;万勇建;吴强;龚艳发 |
主分类号 | B24B13/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B13/00(2006.01)I;B24B13/01(2006.01)I |
专利有效期 | 一种适用于提升氟化钙凹锥镜粗糙度的磁流体加工工具及加工方法 至一种适用于提升氟化钙凹锥镜粗糙度的磁流体加工工具及加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种适用于提升氟化钙凹锥镜粗糙度的磁流体加工工具及加工方法。该工具主要包括直角法兰盘、电机变向器、直线棒、汝铁硼磁棒、导向杆、基准杆、塑形棒。该发明充分考虑了氟化钙晶体的材料特性及凹锥面异形结构特性,基于磁流体加工技术采用磁流体直线磁力棒对氟化钙凹锥进行均匀磨削,消除氟化钙凹锥面的亚表面破坏层及中高频,提升凹锥面的表面粗糙度。本发明对氟化钙凹锥面的面形、锥角具有较强的控制性,对凹锥面的粗糙度具有较强的提升性,突破了国内现有工艺无法加工氟化钙凹锥异形曲面的技术瓶颈,为我国开展光刻机投影曝光光学系统的研制提供技术保障。 |
交易流程
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专利 -
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