专利详情

专利名称	光束整形装置
申请号	CN201720713128.1	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN207114901U	公开（授权）日	2018.03.16
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	杨立梅;黄伟;李丰;张巍巍
主分类号	G02B27/09(2006.01)I	IPC主分类号	G02B27/09(2006.01)I;G02B27/30(2006.01)I
专利有效期	光束整形装置至光束整形装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型提供一种光束整形装置，包括光源、依次远离光源并设置于光源的出射光路上的第一透镜阵列、第二透镜阵列、光束整形器、光束聚焦器和第一光纤，光源包括多个阵列设置的半导体激光器，第一透镜阵列包括多个阵列设置的第一透镜，第一透镜与半导体激光器一一正对对应，第二透镜包括多个阵列设置的第二透镜，第二透镜与第一透镜一一正对对应；光源位于第一透镜阵列的前焦平面，第一透镜阵列的后焦平面与第二透镜阵列的前焦平面重合。第一透镜阵列对光源在快轴方向上的光进行准直，第二透镜阵列对光源在慢轴方向上的光进行准直，通过对光源在慢轴方向上的光进行准直，减少了由于慢轴方向上的发散在侧面引起的损耗，从而提高了整形效率。