专利详情

专利名称	适于接触式光刻机的分区域曝光装置
申请号	CN201610178599.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105652605A	公开（授权）日	2016.06.08
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	马林贤
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	适于接触式光刻机的分区域曝光装置至适于接触式光刻机的分区域曝光装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，包括：第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本发明的装置结构简单，使用时即不破坏光刻机整机结构和正常的曝光工艺，又能很好的起到遮挡紫外光的作用；且该装置中挡板更换方便，更换时不会破坏装置结构；挡板的尺寸可以根据掩膜架上曝光区域的大小进行设定，灵活性强。