专利详情

专利名称	一种用于CVD固态源的挥发装置
申请号	CN201720434437.5	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN206935318U	公开（授权）日	2018.01.30
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿
主分类号	B01J3/03(2006.01)I	IPC主分类号	B01J3/03(2006.01)I
专利有效期	一种用于CVD固态源的挥发装置至一种用于CVD固态源的挥发装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了种用于CVD固态源的挥发装置，包括上盖组件与及不锈钢釜体(1)构成的密闭反应釜；所述的上盖组件包括上盖法兰(2)，上盖法兰(2)上设有与反应釜内连通的进气管(3)与出气管(4)；进气管(3)伸入反应釜内部；所述的上盖法兰(2)上还设有固态源盛放装置，所述的固态源盛放装置包括不锈钢直棒(5)与固态源存放筒(6)；不锈钢直棒(5)外径不小于固态源存放筒(6)外径，通过螺纹连接；固态源存放筒(6)一端伸入反应釜内部；固态源存放筒(6)中空侧壁设有多个通气孔道(7)；所述的上盖法兰(2)上还设有温控装置的热电阻(8)，热电阻(8)测温端伸入反应釜内部；所述的不锈钢釜体(1)外侧设有温控装置的加热环。该装置可以实现固态源的方便填装，源温度的平稳控制，以及良好的密封性能。