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高密度光栅

  • 申请号:CN201720444201.X
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院深圳先进技术研究院
  • 公开(公开)号:CN206907499U
  • 公开(公开)日:2018.01.19
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 高密度光栅
申请号 CN201720444201.X 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN206907499U 公开(授权)日 2018.01.19
申请(专利权)人 中国科学院深圳先进技术研究院 发明(设计)人 李文超;陈鸣闽;李志成;李凌;辜嘉
主分类号 G21K1/06(2006.01)I IPC主分类号 G21K1/06(2006.01)I
专利有效期 高密度光栅 至高密度光栅 法律状态
说明书摘要 本实用新型适用于光学元件领域,公开了高密度光栅,其包括n块叠压固定在一起的低密度光栅,每块低密度光栅的光栅条宽度都为a、光栅周期距离都为A,n为大于或等于2的自然数,且n*a<A;该高密度光栅的光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n。本实用新型提供的高密度光栅,密度高,精度高,结构简单,且易于加工制作,加工成本低,其可先采用传统技术制作出光栅条宽度为a、光栅周期距离为A的低密度光栅,然后再将n块低密度光栅叠压固定在一起制成光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n的高密度光栅,实现了高密度光栅的制作,利于X射线相衬成像实验的开展。

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