
高密度光栅
- 申请号:CN201720444201.X
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院深圳先进技术研究院
- 公开(公开)号:CN206907499U
- 公开(公开)日:2018.01.19
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 高密度光栅 | ||
申请号 | CN201720444201.X | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN206907499U | 公开(授权)日 | 2018.01.19 |
申请(专利权)人 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 发明(设计)人 | 李文超;陈鸣闽;李志成;李凌;辜嘉 |
主分类号 | G21K1/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G21K1/06(2006.01)I |
专利有效期 | 高密度光栅 至高密度光栅 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 本实用新型适用于光学元件领域,公开了高密度光栅,其包括n块叠压固定在一起的低密度光栅,每块低密度光栅的光栅条宽度都为a、光栅周期距离都为A,n为大于或等于2的自然数,且n*a<A;该高密度光栅的光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n。本实用新型提供的高密度光栅,密度高,精度高,结构简单,且易于加工制作,加工成本低,其可先采用传统技术制作出光栅条宽度为a、光栅周期距离为A的低密度光栅,然后再将n块低密度光栅叠压固定在一起制成光栅条宽度为a、光栅周期距离为A/n的高密度光栅,实现了高密度光栅的制作,利于X射线相衬成像实验的开展。 |
交易流程
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