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具有锥形背散射层的GaAs薄膜太阳电池及其制备方法

  • 申请号:CN201510426718.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 公开(公开)号:CN106374001A
  • 公开(公开)日:2017.02.01
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 具有锥形背散射层的GaAs薄膜太阳电池及其制备方法
申请号 CN201510426718.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106374001A 公开(授权)日 2017.02.01
申请(专利权)人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明(设计)人 卢建娅;陆书龙;谭明
主分类号 H01L31/0304(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L31/052(2014.01)I
专利有效期 具有锥形背散射层的GaAs薄膜太阳电池及其制备方法 至具有锥形背散射层的GaAs薄膜太阳电池及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种具有锥形背散射层的GaAs薄膜太阳电池,其特征在于,包括依次叠层设置于廉价衬底上的底电极、AlInP背散射层、GaInP背场层、p-GaAs基层、n-GaAs发射层、GaInP窗口层、GaAs接触层以及顶电极;其中,所述AlInP背散射层朝向所述底电极的一侧具有多个凸起的锥形结构。本发明还公开了如上所述GaAs薄膜太阳电池的制备方法。通过设置锥形背散射层以提高GaAs薄膜太阳电池的光电转换效率,采用廉价衬底,降低了电池的成本。

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