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集成纳米结构的薄膜型MOS气体传感器

  • 申请号:CN201620179891.6
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN205643233U
  • 公开(公开)日:2016.10.12
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 集成纳米结构的薄膜型MOS气体传感器
申请号 CN201620179891.6 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN205643233U 公开(授权)日 2016.10.12
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 明安杰;郑轩;陈大鹏
主分类号 G01N27/12(2006.01)I IPC主分类号 G01N27/12(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期 集成纳米结构的薄膜型MOS气体传感器 至集成纳米结构的薄膜型MOS气体传感器 法律状态
说明书摘要 本实用新型公开了一种集成纳米结构的薄膜型MOS气体传感器,所述集成纳米结构的薄膜型MOS气体传感器,从底部向顶部依次包括:承载硅基底,传感器释放后空腔、MEMS氧化硅、氮化硅复合膜支撑结构,图形化多晶硅薄膜层,纳米尺度硅结构,梳齿敏感电极、加热电极以及引线键合pad层结构,金属氧化物敏感膜层。

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