专利详情

专利名称	平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机
申请号	CN201620161973.8	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN205395453U	公开（授权）日	2016.07.27
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所;苏州锐发打印技术有限公司	发明（设计）人	李令英;宋佳丽;谢永林
主分类号	B41J2/14(2006.01)I	IPC主分类号	B41J2/14(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I;B32B3/26(2006.01)I
专利有效期	平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机至平整薄膜层喷孔结构及喷墨打印机	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种平整薄膜层喷孔结构及应用所述平整薄膜层喷孔结构的喷墨打印机，该平整薄膜层喷孔结构包含一基底，基底上设有若干进墨通道，基底的表面平整地覆盖一薄膜层，在薄膜层的内部设有若干压力腔，压力腔与进墨通道一一对应并相互连通，薄膜层的表面还设有若干喷孔，喷孔与压力腔一一对应并相互连通，压力腔之间还可以设有隔层，薄膜层由有机材料制成。由于本实用新型的平整喷孔薄膜层结构的薄膜层整体由有机材料形成，易于制造且在表面不会形成凹槽，不会造成油墨和其他污染物的累积；压力腔墙体坚固不易损坏，更利于批量化生产。