专利详情

专利名称	一种用于软X射线谱学显微成像的原位磁场系统
申请号	CN201620017001.1	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN205376239U	公开（授权）日	2016.07.06
申请（专利权）人	中国科学院上海应用物理研究所	发明（设计）人	孟祥雨;王勇;甄香君;郭智;张丽娟;张祥志;于怀娜;曹杰锋;李俊琴;邰仁忠
主分类号	H01F7/00(2006.01)I	IPC主分类号	H01F7/00(2006.01)I;G01N23/04(2006.01)I
专利有效期	一种用于软X射线谱学显微成像的原位磁场系统至一种用于软X射线谱学显微成像的原位磁场系统	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及一种用于软X射线谱学显微成像的原位磁场系统，其包括：通过一万向磁力表座安装在一真空腔体内的电磁铁，其包括：由相互平行设置的上水平磁铁板和下水平磁铁板、以及连接在所述上水平磁铁板和下水平磁铁板之间的竖直磁铁板构成的U型框架；从所述上水平磁铁板的下表面向下延伸的上极头；从所述下水平磁铁板的上表面向上延伸的铁芯，其顶端具有与所述上极头位置相对的下极头，该下极头与所述上极头间隔开以供外部样品设置在该上、下极头之间；以及绕制在所述铁芯外缘的线圈；以及与所述线圈连接以向其供电的直流电源。本实用新型有效提高了STXM实验站样品处的磁场强度和均匀性。