
一种用于2.79μm有效补偿热透镜效应的激光器结构
- 申请号:CN201520931457.4
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院合肥物质科学研究院
- 公开(公开)号:CN205195038U
- 公开(公开)日:2016.04.27
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 一种用于2.79μm有效补偿热透镜效应的激光器结构 | ||
申请号 | CN201520931457.4 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN205195038U | 公开(授权)日 | 2016.04.27 |
申请(专利权)人 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 发明(设计)人 | 王金涛;程庭清;王礼;邢庭伦;胡舒武;崔庆哲;吴先友;江海河 |
主分类号 | H01S3/115(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S3/115(2006.01)I;H01S3/16(2006.01)I;H01S3/042(2006.01)I;H01S3/0941(2006.01)I |
专利有效期 | 一种用于2.79μm有效补偿热透镜效应的激光器结构 至一种用于2.79μm有效补偿热透镜效应的激光器结构 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 本实用新型公开了一种用于2.79μm有效补偿热透镜效应的激光器结构,包括:全反腔片、半导体泵浦模块、激光棒、输出腔片、激光电源和激光水冷系统。激光棒和放置在半导体泵浦模块内,半导体泵浦模块通过激光电源提供能量发光,产生的光泵浦光对准激光棒发射以便最大限度的进入激光棒内对激光棒进行泵浦;激光水冷系统与激光棒和半导体泵浦模块相连接,为激光棒和半导体泵浦模块提供恒温冷却作用;激光电源为半导体泵浦模块提供能量并同时控制水冷系统进行协调工作;根据热透镜随泵浦功率的变化关系,在晶体棒两端面研磨一定曲率的曲面。 |
交易流程
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选取所需
专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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