专利详情

专利名称	一种金属图形化方法
申请号	CN201410527578.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105502281A	公开（授权）日	2016.04.20
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	陈沁
主分类号	B81C1/00(2006.01)I	IPC主分类号	B81C1/00(2006.01)I
专利有效期	一种金属图形化方法至一种金属图形化方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开一种金属图形化方法，包括步骤：A)提供一具有预设微纳图形结构的压印版；B)在所述压印版上依次形成抗粘附层及金属膜层；C)提供一基片，并使所述基片与完成步骤B)的压印版在预定压力和预定温度下进行接触；D)将步骤A)中的压印版与所述基片分开，以使所述金属膜层转移到所述基片上，从而在所述基片上形成纳米金属结构。本发明的金属图形化方法利用具有侧壁内凹的结构体的压印版，能够有效地减小转移到基片上的纳米金属结构的边缘粗糙度，且可以实现真空环境下的金属图形化。而且，本发明的金属图形化方法精度高、工艺简单，大大降低了金属图形化特别是金属纳米结构图形化的成本，同时还能够提高加工效率。