阳极场辅磁控溅射镀膜装置
- 申请号：CN201520836093.1
- 专利类型：实用新型
- 申请（专利权）人：中国科学院兰州化学物理研究所
- 公开(公开)号：CN205152320U
- 公开(公开)日：2016.04.13
- 法律状态：
- 出售价格： 面议 立即咨询
专利详情
| 专利名称 | 阳极场辅磁控溅射镀膜装置 | ||
| 申请号 | CN201520836093.1 | 专利类型 | 实用新型 |
| 公开（公告）号 | CN205152320U | 公开（授权）日 | 2016.04.13 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力;王健 |
| 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 专利有效期 | 阳极场辅磁控溅射镀膜装置 至阳极场辅磁控溅射镀膜装置 | 法律状态 | |
| 说明书摘要 | 本实用新型属于物理气相沉积领域，公开了一种阳极场辅磁控溅射镀膜装置，该装置包括真空腔体、工件盘和至少两个由电源Ⅰ供电的磁控溅射靶，在相邻的磁控溅射靶之间设有由电源Ⅱ供电的水冷阳极，在真空腔体内形成闭环结构。本实用新型将等高的水冷阳极和磁控溅射靶复合，增强了离化率的同时提高了腔体等离子体均匀性。 | ||
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言