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一种离轴抛物面离轴量的测量装置

  • 申请号:CN201520736224.9
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
  • 公开(公开)号:CN205120039U
  • 公开(公开)日:2016.03.30
  • 法律状态:
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专利详情

专利名称 一种离轴抛物面离轴量的测量装置
申请号 CN201520736224.9 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN205120039U 公开(授权)日 2016.03.30
申请(专利权)人 中国科学院上海技术物理研究所 发明(设计)人 于清华;孙胜利
主分类号 G01B11/00(2006.01)I IPC主分类号 G01B11/00(2006.01)I
专利有效期 一种离轴抛物面离轴量的测量装置 至一种离轴抛物面离轴量的测量装置 法律状态
说明书摘要 本专利公开一种离轴抛物面离轴量的测量装置,包括会聚光干涉仪、平行光干涉仪、自准平面镜、法兰盘和对可见波段高吸收的标记,利用光直线传播的原理,将离轴抛物面镜的通光孔径几何中心和焦点,投影到自准平面镜上,并分别标记,通过测量标记间距,测量离轴抛物面镜的离轴量。本专利的优点在于:原理简单、易操作,解决了离轴抛物面离轴量的测量问题。

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