专利详情

专利名称	一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统
申请号	CN201510962473.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105404100A	公开（授权）日	2016.03.16
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	谢耀;王丽萍;周烽;王君;王辉;郭本银;金春水
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统至一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统，该控制方法、曝光方法和曝光系统中，通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量，对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定，建立二者之间的关系曲线，进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测，间接实现了对于硅片面上曝光能量（曝光剂量）的监测，通过监测的结果进行光开关控制，实现了在线监控曝光剂量的目的，提高了曝光剂量的监控精度。