专利详情

专利名称	用于准分子激光器的卤素气体补充装置
申请号	CN201520477457.1	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN205081350U	公开（授权）日	2016.03.09
申请（专利权）人	中国科学院光电研究院	发明（设计）人	沙鹏飞;单耀莹;彭卓君;宋兴亮;蔡茜玮;范元媛;李慧;赵江山;周翊
主分类号	H01S3/036(2006.01)I	IPC主分类号	H01S3/036(2006.01)I
专利有效期	用于准分子激光器的卤素气体补充装置至用于准分子激光器的卤素气体补充装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种用于准分子激光器的卤素气体补充装置，准分子激光器的腔体具有进入管道和出气管道，卤素气体补充装置包括冷凝器(1)、氧气提供装置(2)、压缩机(3)和储气室(4)，储气室(4)分别与出气管道、冷凝器(1)、氧气提供装置(2)通过阀门连接。氧气提供装置(2)用于向储气室(4)提供氧气；储气室(4)用于使氧气和来自腔体的工作气体充分反应生成反应气体；冷凝器(1)对反应气体进行制冷，由此除杂而输出未被冷凝的气体，压缩机(3)抽取所述冷凝器(4)中未被冷凝的气体并输送到腔体中。本实用新型可以有效的提高工作气体的寿命，同时在除杂过程中不会由于添加其它气体而使输出能量下降。