一种新型Cr-Y-O纳米团簇氧化物弥散强化低活化钢
- 申请号:CN201410334591.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院金属研究所
- 公开(公开)号:CN105239010A
- 公开(公开)日:2016.01.13
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种新型Cr-Y-O纳米团簇氧化物弥散强化低活化钢 | ||
| 申请号 | CN201410334591.6 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN105239010A | 公开(授权)日 | 2016.01.13 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院金属研究所 | 发明(设计)人 | 单以银;胡雪;黄礼新;严伟;王威;杨柯 |
| 主分类号 | C22C38/24(2006.01)I | IPC主分类号 | C22C38/24(2006.01)I;C22C38/26(2006.01)I;C22C38/48(2006.01)I;C21D6/00(2006.01)I;C21D1/28(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种新型Cr-Y-O纳米团簇氧化物弥散强化低活化钢 至一种新型Cr-Y-O纳米团簇氧化物弥散强化低活化钢 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明的目的在于提供一种适用于聚变堆的新型Cr-Y-O纳米团簇氧化物弥散强化低活化钢,该氧化物弥散强化低活化钢的成分配比为:基体为Fe,0.04%≤C≤0.14%,10.0%≤Cr≤14.0%,1.1%≤W≤1.50%,0.15%≤V≤0.35%,0.03%≤Ta≤0.19%,0.2≤Mn≤0.6%,0.05%≤Si≤0.15%,0.20%≤Y≤0.75%,以及少量制造过程中不可避免混入的杂质,严格控制经中子辐照后能产生放射性核素的易活化元素含量和杂质元素含量:N<0.010%,Al<0.010%,Ni<0.005%,Mo<0.005%,Nb<0.010%,Cu<0.010%;P<0.005%,S<0.005%。所述氧化物弥散强化低活化钢组织均匀,氧化物纳米团簇弥散分布,不仅具备优异的力学性能,还具备低活化性能以及良好的抗辐照肿胀能力。 | ||
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