
一种双光路探测横向剪切干涉仪
- 申请号:CN201520636365.3
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN204902766U
- 公开(公开)日:2015.12.23
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 一种双光路探测横向剪切干涉仪 | ||
申请号 | CN201520636365.3 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN204902766U | 公开(授权)日 | 2015.12.23 |
申请(专利权)人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 邹纯博;李立波;白清兰;胡炳樑;刘学斌;孙剑 |
主分类号 | G01B9/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B9/02(2006.01)I |
专利有效期 | 一种双光路探测横向剪切干涉仪 至一种双光路探测横向剪切干涉仪 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 本实用新型提供一种双光路探测横向剪切干涉仪,包括分光立方棱镜一、分光立方棱镜二、直角反射棱镜一和直角反射棱镜二;入射光轴和分光立方棱镜一的入射表面垂直且位于分光立方棱镜一入射表面中心;分光立方棱镜二和分光立方棱镜一的分光面位于一平面上,分光立方棱镜二位于分光立方棱镜一透射光线的出射表面与直角反射棱镜一斜边表面之间;直角反射棱镜一斜边表面与分光立方棱镜一的入射表面平行;直角反射棱镜二位于分光立方棱镜二上侧,其斜边表面与分光立方棱镜一反射光线的出射表面平行。本实用新型的横向剪切干涉技术具有更高的干涉效率,提高了干涉仪性能,降低了干涉仪对分光膜性能的严苛要求。 |
交易流程
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专利 -
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