专利详情

专利名称	大口径单轴晶体折射率均匀性测量装置
申请号	CN201520499420.9	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN204855372U	公开（授权）日	2015.12.09
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	段亚轩;陈永权;赵怀学;李坤;田留德;赵建科;薛勋;刘尚阔;潘亮;聂申;昌明;张洁;胡丹丹
主分类号	G01N21/41(2006.01)I	IPC主分类号	G01N21/41(2006.01)I
专利有效期	大口径单轴晶体折射率均匀性测量装置至大口径单轴晶体折射率均匀性测量装置	法律状态
说明书摘要	一种大口径单轴晶体折射率均匀性测量装置，准直镜、起偏器和半透半反镜依次设置在激光器的出射光所在光路上；半透半反镜将入射至半透半反镜的光进行反射和透射并分别形成反射光和透射光；会聚镜设置在反射光所在光路上并将反射光会聚至积分球功率计中；缩束系统物镜、缩束系统目镜和夏克-哈特曼波前传感器依次设置在透射光所在光路上；待测大口径单轴晶体置于起偏器和半透半反镜之间；计算机分别与积分球功率计、夏克-哈特曼波前传感器和待测大口径单轴晶体相连。本实用新型可实现大口径单轴晶体折射率均匀性测量，不受波长限制，和外界环境气流和振动的影响，并很好的保证测量精度。