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一种钙钛矿型Sr2IrO4单晶薄膜材料的制备方法

  • 申请号:CN201510394987.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 公开(公开)号:CN105161217A
  • 公开(公开)日:2015.12.16
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种钙钛矿型Sr2IrO4单晶薄膜材料的制备方法
申请号 CN201510394987.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN105161217A 公开(授权)日 2015.12.16
申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 李明颖;沈大伟;杨海峰;刘正太;刘吉山;姚岐;樊聪聪
主分类号 H01B13/00(2006.01)I IPC主分类号 H01B13/00(2006.01)I;C30B29/24(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I
专利有效期 一种钙钛矿型Sr2IrO4单晶薄膜材料的制备方法 至一种钙钛矿型Sr2IrO4单晶薄膜材料的制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种钙钛矿型Sr2IrO4单晶薄膜材料的制备方法,所述制备方法至少包括:首先提供一SrTiO3衬底;然后对所述SrTiO3衬底进行预处理,获得具有单一终截面的SrTiO3衬底;接着对所述具有单一终截面的SrTiO3衬底依次进行清洗处理和退火处理;最后在氧化物分子束外延系统中,通入氧化源,并交替通入Sr单质蒸发源和Ir单质蒸发源,从而在所述SrTiO3衬底表面生长形成钙钛矿型Sr2IrO4单晶薄膜材料。本发明通过新型的氧化物分子束外延(Oxide?molecular?beam?epitaxy)技术,在面内晶格失配率较低的SrTiO3(001)衬底上制备出高质量的Sr2IrO4单晶薄膜,为实现高比例化学元素掺杂的Sr2IrO4单晶制备奠定基础。

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