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离子束抛光设备

  • 申请号:CN201520408818.7
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学技术大学
  • 公开(公开)号:CN204771859U
  • 公开(公开)日:2015.11.18
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 离子束抛光设备
申请号 CN201520408818.7 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN204771859U 公开(授权)日 2015.11.18
申请(专利权)人 中国科学技术大学 发明(设计)人 吴丽翔;邱克强;曾思为;付绍军
主分类号 B24B1/00(2006.01)I IPC主分类号 B24B1/00(2006.01)I
专利有效期 离子束抛光设备 至离子束抛光设备 法律状态
说明书摘要 本实用新型提供了一种离子束抛光设备。该离子束抛光设备包括:工件台、离子束发生器和运动控制系统。其中,工件放置于工件台上,离子束发生器发出形状和大小实时可控的离子束束斑;运动控制系统驱动工件台和/或离子束发生器运动,离子束束斑在工件表面移动,实现对工件的抛光。本实用新型中,离子束束斑的形状和大小均可控,从而提高了离子束抛光设备的可控性和控制精度。

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