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制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法

  • 申请号:CN201510354656.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学技术大学
  • 公开(公开)号:CN105047753A
  • 公开(公开)日:2015.11.11
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法
申请号 CN201510354656.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN105047753A 公开(授权)日 2015.11.11
申请(专利权)人 中国科学技术大学 发明(设计)人 朱长飞;王亚光;李建民;刘伟丰;江国顺
主分类号 H01L31/18(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;H01L21/477(2006.01)I
专利有效期 制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法 至制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本公开提供了一种制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法,所述方法包括以下步骤:步骤一:清洗衬底,以获得清洁衬底;步骤二:在步骤一所述清洁衬底上以任意顺序通过溶液沉积法连续交替沉积SnS薄膜和Cu薄膜;步骤三:在硫气氛或者硒气氛下,将步骤二得到的含有Sn元素和Cu元素薄膜的叠层进行热处理,得到铜锡硫或铜锡硫硒薄膜。

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