专利详情

专利名称	激光测量核孔膜均匀度的装置
申请号	CN201520158290.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN204731151U	公开（授权）日	2015.10.28
申请（专利权）人	中国科学院近代物理研究所	发明（设计）人	莫丹;袁平;刘杰;曹殿亮;刘建德;张胜霞
主分类号	G01N21/17(2006.01)I	IPC主分类号	G01N21/17(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I
专利有效期	激光测量核孔膜均匀度的装置至激光测量核孔膜均匀度的装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及一种激光测量核孔膜均匀度的装置，其主要特点在于包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。本实用新型的优点是：采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息，可以根据不同的扫描方式，来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式，可以通过计算机编程，自动的进行获取，从而迅速得到样品的均匀度信息。