专利详情

专利名称	用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法
申请号	CN201510437817.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104991423A	公开（授权）日	2015.10.21
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	蔡燕民;司徒国海;步扬;王向朝;黄惠杰
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I
专利有效期	用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法至用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法，包括①计算所述的待曝光HDI基板厚度和所述的共轭距可变的光刻投影物镜的物距变化；②根据步骤①得到物距变化对共轭距可变的光刻投影物镜整体沿着光轴方向调整③对HDI基板曝光。本发明没有对物平面控制和像平面(即HDI基板表面)控制提出可动要求，也没有对调焦调平系统和对准系统提出附加的技术要求，减轻了LDI光刻设备系统设计的压力，可以有效的在共轭距变化范围内很好地校正波像差、畸变等，实现良好的成像质量。