专利详情

专利名称	一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置
申请号	CN201510212191.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104907287A	公开（授权）日	2015.09.16
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	卢启鹏;王依;彭忠琦;龚学鹏
主分类号	B08B7/00(2006.01)I	IPC主分类号	B08B7/00(2006.01)I
专利有效期	一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置至一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置，属于短波光学领域，为解决现有技术存在的光学元件表面的氧化，损伤光学元件表面，清洗速率较低的问题，该装置氢原子发射器、第一反射率计、分子泵、第二反射率计、射频等离子体电镜清洗仪接口安装在清洗腔外部与其端口密封、紧固，工作距离调整滑台通过支撑架与氢原子发射器联接，样品台设置在清洗腔内侧底部中心处，石英天平和样品设置在样品台上，入射角度调整转台从清洗腔底部与样品台联接；该清洗方法可实现对样品的粗精清洗，不仅避免清洗对样品造成损伤，而且提高清洗效率，通过对工作距离、入射角度的调节，实现对清洗过程的优化控制；本发明保证样品表面质量不受破坏，而且提高了碳污染清洗速率。