专利详情

专利名称	一种用于EUV光刻机的真空反射镜片安装和调节装置
申请号	CN201520103538.5	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN204575943U	公开（授权）日	2015.08.19
申请（专利权）人	中国科学院光电研究院	发明（设计）人	陈进新;王宇;吴晓斌;谢婉露;王魁波;崔惠绒
主分类号	G02B7/198(2006.01)I	IPC主分类号	G02B7/198(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种用于EUV光刻机的真空反射镜片安装和调节装置至一种用于EUV光刻机的真空反射镜片安装和调节装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种用于EUV光刻机的真空反射镜片安装和调节装置，其包括腔体(1)、镜片支撑架(3)、抱压系统(4)和支承系统(5)，腔体底壁具有通孔，镜片支撑架位于腔体内，用于支撑反射镜片，抱压系统用于将反射镜片固定在镜片支撑架上，支承系统从腔体的通孔穿入腔体，位于腔体内的部分与镜片支撑架的底部固定连接。支承系统包括上法兰、下法兰、波纹管和支承螺杆，上法兰、下法兰分别与波纹管的两端固定连接并且轴向对正，中心开有通孔。支承螺杆依次穿过腔体的通孔以及下法兰、波纹管、上法兰的轴心的通孔，抵顶镜片支撑架的底部。本实用新型能够实现反射镜片和镜片支撑架的三维调节，隔离真空抽气泵组对反射镜片的振动影响。