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散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置

  • 申请号:CN201520152427.3
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院近代物理研究所
  • 公开(公开)号:CN204596442U
  • 公开(公开)日:2015.08.26
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置
申请号 CN201520152427.3 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN204596442U 公开(授权)日 2015.08.26
申请(专利权)人 中国科学院近代物理研究所 发明(设计)人 宋银;缑洁;张崇宏
主分类号 G21K5/00(2006.01)I IPC主分类号 G21K5/00(2006.01)I;G21K5/08(2006.01)I;G21K5/04(2006.01)I
专利有效期 散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置 至散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置 法律状态 授权
说明书摘要 本实用新型涉及到一种散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置,主要应用于常温环境中的低剂量载能离子辐照材料实验,特别适合于大批量小样品的辐照试验。一种散射-低剂量-旋转载能离子辐照装置,其主要特点在于包括有步进电机支架固连于真空法兰上,步进电机支架固连有步进电机,步进电机驱动旋转靶盘,在旋转靶盘的前方设有扇形挡板,扇形挡板连接在步进电机支架上;束流探测装置支架位于扇形挡板前,其上设有束流探测装置。本实用新型的优点在于获得了大面积的散射束,大大提高了辐照实验的效率。

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