一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池
- 申请号：CN201420464160.7
- 专利类型：实用新型
- 申请（专利权）人：中国科学院过程工程研究所;天津市高仕睿联科技有限公司
- 公开(公开)号：CN204439523U
- 公开(公开)日：2015.07.01
- 法律状态：
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专利详情
| 专利名称 | 一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池 | ||
| 申请号 | CN201420464160.7 | 专利类型 | 实用新型 |
| 公开（公告）号 | CN204439523U | 公开（授权）日 | 2015.07.01 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院过程工程研究所;天津市高仕睿联科技有限公司 | 发明（设计）人 | 杜浩;郑诗礼;王中行;阎文艺;王学斌;王少娜;刘海泉;秦亚灵;张懿 |
| 主分类号 | G01N21/03(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/03(2006.01)I;G01N27/401(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池 至一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池 | 法律状态 | |
| 说明书摘要 | 用新型提供了一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池。所述反应池包括透光部件、电极密封部件、加热保温部件及密封部件等。所述电极密封部件通过螺纹与外围加热保温部件相连，通过调节螺纹实现电极密封盘与顶部光学透镜间距离的调节。所述光学池可实现反应池厚度及温度调节，可满足大部分应用需求。 | ||
交易流程
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专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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