极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的快速仿真方法
- 申请号：CN201510068050.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN104730867A
- 公开(公开)日：2015.06.24
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的快速仿真方法 | ||
| 申请号 | CN201510068050.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN104730867A | 公开（授权）日 | 2015.06.24 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 管文超;王向朝;李思坤;刘晓雷 |
| 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F1/24(2012.01)I |
| 专利有效期 | 极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的快速仿真方法 至极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的快速仿真方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的快速仿真方法,所述方法将多层膜振幅型缺陷分为缺陷颗粒与多层膜两部分，并分别通过米散射法和单平面近似法建模。本发明提供了一种可有效仿真极紫外光刻掩模多层膜振幅型缺陷衍射谱的方法,提高了仿真速度。 | ||
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