一种微调刻蚀深度空间分布的系统
- 申请号：CN201420724635.1
- 专利类型：实用新型
- 申请（专利权）人：中国科学技术大学
- 公开(公开)号：CN204407287U
- 公开(公开)日：2015.06.17
- 法律状态：
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专利详情
| 专利名称 | 一种微调刻蚀深度空间分布的系统 | ||
| 申请号 | CN201420724635.1 | 专利类型 | 实用新型 |
| 公开（公告）号 | CN204407287U | 公开（授权）日 | 2015.06.17 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 吴丽翔;邱克强;付绍军 |
| 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种微调刻蚀深度空间分布的系统 至一种微调刻蚀深度空间分布的系统 | 法律状态 | |
| 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种微调刻蚀深度空间分布的系统。所述系统包括运动控制系统和扫描装置；所述运动控制系统，包括上位机运动控制单元和运动控制箱。所述扫描装置，包括叶片扫描组件和束宽修正双滑门组件，其中，叶片扫描组件是一个两轴扫描运动机构，束宽修正双滑门组件是调节离子束束流宽度的双滑动门机构。 | ||
交易流程
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专利 -
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可交易 - 03 签订合同
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