专利详情

专利名称	一种X射线聚焦光学系统
申请号	CN201420845744.9	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN204359942U	公开（授权）日	2015.05.27
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	刘永安;盛立志;刘舵;李林森;代锦飞;刘哲;赵宝升
主分类号	G01T1/29(2006.01)I	IPC主分类号	G01T1/29(2006.01)I
专利有效期	一种X射线聚焦光学系统至一种X射线聚焦光学系统	法律状态	授权
说明书摘要	本实用新型涉及一种X射线聚焦光学系统，包括镜筒，安装在镜筒内的反射镜片组、支撑架，反射镜片组为多个单层反射镜片嵌套形成的多层套筒结构，各单层反射镜片关于光轴旋转对称，单层反射镜片的内表面为反射面，内表面的形状为圆锥曲面，单层反射镜片之间的径向间距渐变且共焦点，能够以掠入射的方式对平行或近似平行入射的X射线通过单次反射进行聚焦。本实用新型可以有效提高X射线光子收集效率，为X射线脉冲星导航和X射线通信等非成像应用情况下微弱X射线光子的探测提供了一种简便、高效的聚焦光学系统。