专利详情

专利名称	一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法
申请号	CN201510058076.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104624138A	公开（授权）日	2015.05.20
申请（专利权）人	中国科学院电工研究所	发明（设计）人	王瑞雪;邵涛;章程;严萍
主分类号	B01J19/08(2006.01)I	IPC主分类号	B01J19/08(2006.01)I;C02F1/30(2006.01)I
专利有效期	一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法至一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液的装置，等离子体射流阵列结构包括多个结构相同的等离子体射流装置；等离子体射流装置包括绝缘介质一，绝缘介质一的上部与下部均环绕有金属环一与金属环二；电源包括高压极与地极，高压极、地极分别与金属环一、金属环二连接。等离子体射流阵列结构可用于大面积的水溶液处理；喷泉式的水柱保证水溶液处理的均匀性和连续性；等离子体射流阵列结构与水处理装置的水溶液相分离，两者之间的距离可调节，等离子体放电不受水溶液的影响，放电具有稳定性；应用范围广泛，可用于工业废水、污水处理，水溶液消毒灭菌以及制备消毒水等，且不会产生二次污染；结构简单，成本低，易操作，产品易扩大，易于工业转化。