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基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法

  • 申请号:CN201510067863.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN104614072A
  • 公开(公开)日:2015.05.13
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法
申请号 CN201510067863.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN104614072A 公开(授权)日 2015.05.13
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 刘军;黄政
主分类号 G01J3/45(2006.01)I IPC主分类号 G01J3/45(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I
专利有效期 基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法 至基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种基于全反射镜的二维光谱测量装置,包括:分束挡板、方形柱体四面反射镜、第一延时反射镜、第二延时反射镜、第三延时反射镜、第四延时反射镜、空间滤波器、衰减片、第一凹面反射镜、样品、第二凹面反射镜、挡光板和光谱测量装置,本发明无透射元件,故没有透射带来的色散效应和窄光谱限制,同时消除了光束延时调节时所带来的光束移位问题,使得装置更加紧凑,稳定,可以在很宽的光谱范围内进行光谱探测。在同一装置上还可以同时探测样品的泵浦-探测光谱,用于二维光谱的相位校正。

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