
基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法
- 申请号:CN201510067863.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN104614072A
- 公开(公开)日:2015.05.13
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法 | ||
申请号 | CN201510067863.5 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN104614072A | 公开(授权)日 | 2015.05.13 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 刘军;黄政 |
主分类号 | G01J3/45(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/45(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I |
专利有效期 | 基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法 至基于全反射镜的二维光谱测量装置及测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种基于全反射镜的二维光谱测量装置,包括:分束挡板、方形柱体四面反射镜、第一延时反射镜、第二延时反射镜、第三延时反射镜、第四延时反射镜、空间滤波器、衰减片、第一凹面反射镜、样品、第二凹面反射镜、挡光板和光谱测量装置,本发明无透射元件,故没有透射带来的色散效应和窄光谱限制,同时消除了光束延时调节时所带来的光束移位问题,使得装置更加紧凑,稳定,可以在很宽的光谱范围内进行光谱探测。在同一装置上还可以同时探测样品的泵浦-探测光谱,用于二维光谱的相位校正。 |
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