专利详情

专利名称	一种真空激光熔覆加工装置
申请号	CN201420739666.4	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN204311132U	公开（授权）日	2015.05.06
申请（专利权）人	中国科学院金属研究所	发明（设计）人	线全刚;张重远;边舫;蔡静
主分类号	C23C24/10(2006.01)I	IPC主分类号	C23C24/10(2006.01)I
专利有效期	一种真空激光熔覆加工装置至一种真空激光熔覆加工装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型提供了一种真空激光熔覆加工装置，包括激光器、导光装置、真空室、工作台、自动送粉器、抽真空系统和数控系统；激光器位于真空室前端，导光装置设于真空室上，工作台和自动送粉器的喷嘴设置在真空室内，抽真空系统设在真空室外，数控系统控制工作台和自动送粉器；导光装置包括腔体、光阑、透镜、气体冷却装置、第一、二平面镜、水冷却装置、聚焦镜；光阑位于腔体激光输入口处，其后设有带气体冷却装置的透镜；透镜另一端与腔体成45°角设有第一平面镜；第二平面镜位于第一平面镜下面，与其成90°角；聚焦镜设于第二平面镜另一端，与第二平面镜平行，且与腔体的激光输出口成45°角；第一、二平面镜、聚焦镜背面均设有水冷却装置。