专利详情

专利名称	高速旋转激光直写任意图形的方法
申请号	CN201510010341.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104597718A	公开（授权）日	2015.05.06
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	范永涛;魏劲松;王睿
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G03F7/207(2006.01)I
专利有效期	高速旋转激光直写任意图形的方法至高速旋转激光直写任意图形的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种高速旋转激光直写任意图形的方法，主要用于快速生产制造各种具有中心对称和非中心对称的具有任意分布的微纳图形器件。本发明首先构建一套极坐标激光直写系统，然后将待刻写的任意图形在极坐标下，以螺旋线轨迹等线间距分解为一组图像数据，最后在实际刻写过程中，通过反馈控制算法，动态调节相邻两刻写点数据发出之间的时间间隔，使得待刻写的某点的理论设计位置与其实际位置之间的差别趋近于0。本发明具有实现方法简单，刻写点位置分布精度高，刻写图形类型多样，实用性广的特点，在微纳图形器件制造等领域有着广泛的应用前景。