专利详情

专利名称	一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法
申请号	CN201410854330.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104556060A	公开（授权）日	2015.04.29
申请（专利权）人	上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	梁晨亮;刘卫丽;宋志棠
主分类号	C01B33/141(2006.01)I	IPC主分类号	C01B33/141(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I
专利有效期	一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法至一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及CMP技术抛光领域，特别是涉及一种线形二氧化硅溶胶及其制备方法。本发明提供一种线状二氧化硅溶胶，包括液体介质和溶胶颗粒，所述溶胶颗粒为线状二氧化硅颗粒。本产品的有益效果是：通过特选的酸性溶液与处理方法，形成线状二氧化硅溶胶。由于二氧化硅胶体颗粒为线状，其在芯片上的拖曳面积比单一球状的粒子要显著增大，故而能够提高抛光速率。同时，由于线状二氧化硅颗粒自身有一定的柔软度，对芯片的损伤也较煅烧二氧化硅较小。使用本发明的线状纳米二氧化硅颗粒作为CMP研磨颗粒，能有效提高抛光速率与降低表面损伤。