专利详情

专利名称	一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统
申请号	CN201510001996.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104536273A	公开（授权）日	2015.04.22
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	司新春;唐燕;胡松;刘俊伯;周毅;邓钦元;陈昌龙;邸成良;程依光
主分类号	G03F9/00(2006.01)I	IPC主分类号	G03F9/00(2006.01)I
专利有效期	一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统至一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像透镜系统形成平行光，透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅并发生多次衍射，来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加，形成周期被放大的莫尔条纹，最后成像于CCD图像传感器上。对图像处理后可以同时提取横纵两轴的两组莫尔干涉条纹的相位差，进而计算出掩模和硅片之间的相对位移，再通过电路控制硅片移动，使硅片与掩模完全对准。本发明可同时进行两个方向的精度对准，易装调，精度高。