单透镜近远场基准装置
- 申请号：CN201410833519.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN104536149A
- 公开(公开)日：2015.04.22
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 单透镜近远场基准装置 | ||
| 申请号 | CN201410833519.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN104536149A | 公开（授权）日 | 2015.04.22 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 唐顺兴;朱健强;朱宝强;郭亚晶;惠宏超 |
| 主分类号 | G02B27/30(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/30(2006.01)I |
| 专利有效期 | 单透镜近远场基准装置 至单透镜近远场基准装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种单透镜近远场基准装置。本发明采用单透镜同时将光束近场和远场成像在CCD上，CCD作为近、远场的共同基准，从一幅图像中既获得自动准直必须的光束的近场，又获得光束的远场，通过一幅图像就可以处理出光束与基准的偏差。与传统分离设计的近远场准直基准相比，光路更加紧凑，通过简化准直光路及减少图像处理数据量，进而提高自动准直速度。该近远场基准装置结构简单，易于实现，可有效提高自动准直图像数据获取和处理速度。 | ||
交易流程
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专利 -
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