专利详情

专利名称	钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法
申请号	CN201410789277.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104498034A	公开（授权）日	2015.04.08
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	姜本学;张阳;张龙;范金太;张攀德;毛小建
主分类号	C09K11/78(2006.01)I	IPC主分类号	C09K11/78(2006.01)I
专利有效期	钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法至钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶材料及其制备方法，钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶材料的分子式为：Nd：Lu_xSc_2-xO₃，其中x的取值范围为：0.1≤x≤1.9。Nd³⁺是典型的四能级离子，由于激光下能级与基态相距较远，所以泵浦阈值较低，且它的吸收截面和发射截面都比较大，是非常好的激光增益介质。Nd：Lu_xSc_2-xO₃激光材料优异的光学特性、热学性能使其成为发光二极管，产生超短脉冲飞秒激光的增益介质的完美选择。