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一种雪崩光电二极管及其制作方法

  • 申请号:CN201410818494.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN104465853A
  • 公开(公开)日:2015.03.25
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种雪崩光电二极管及其制作方法
申请号 CN201410818494.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN104465853A 公开(授权)日 2015.03.25
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 向伟;王国伟;徐应强;郝宏玥;蒋洞微;任正伟;贺振宏;牛智川
主分类号 H01L31/107(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/107(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
专利有效期 一种雪崩光电二极管及其制作方法 至一种雪崩光电二极管及其制作方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种雪崩光电二极管及其制作方法。所述二极管包括:在衬底上至少外延生长的缓冲层,N型欧姆接触层,光吸收层,雪崩倍增层和P型欧姆接触层。本发明采用不同厚度的InAs层、GaSb层的超晶格制成光吸收层,可以吸收从短波到长波的红外,同时AlGaAsSb可以减少暗电流,通过台面刻蚀,钝化和蒸金属后制成器件,器件可以响应短波到长波红外并可以提供一定的增益,从而提高探测器的信噪比。

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