一种雪崩光电二极管及其制作方法
- 申请号:CN201410818494.4
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN104465853A
- 公开(公开)日:2015.03.25
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种雪崩光电二极管及其制作方法 | ||
| 申请号 | CN201410818494.4 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN104465853A | 公开(授权)日 | 2015.03.25 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 向伟;王国伟;徐应强;郝宏玥;蒋洞微;任正伟;贺振宏;牛智川 |
| 主分类号 | H01L31/107(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/107(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种雪崩光电二极管及其制作方法 至一种雪崩光电二极管及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种雪崩光电二极管及其制作方法。所述二极管包括:在衬底上至少外延生长的缓冲层,N型欧姆接触层,光吸收层,雪崩倍增层和P型欧姆接触层。本发明采用不同厚度的InAs层、GaSb层的超晶格制成光吸收层,可以吸收从短波到长波的红外,同时AlGaAsSb可以减少暗电流,通过台面刻蚀,钝化和蒸金属后制成器件,器件可以响应短波到长波红外并可以提供一定的增益,从而提高探测器的信噪比。 | ||
交易流程
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专利 -
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