一种厚度均匀可控的铜包覆钼复合粉体、制备方法及其用途
- 申请号:CN201410546468.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院过程工程研究所
- 公开(公开)号:CN104368808A
- 公开(公开)日:2015.02.25
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种厚度均匀可控的铜包覆钼复合粉体、制备方法及其用途 | ||
| 申请号 | CN201410546468.0 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN104368808A | 公开(授权)日 | 2015.02.25 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院过程工程研究所 | 发明(设计)人 | 李建强;吴鹏;周张健;马炳倩 |
| 主分类号 | B22F1/02(2006.01)I | IPC主分类号 | B22F1/02(2006.01)I;C25D15/00(2006.01)I;C25D5/38(2006.01)I;C25D3/38(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种厚度均匀可控的铜包覆钼复合粉体、制备方法及其用途 至一种厚度均匀可控的铜包覆钼复合粉体、制备方法及其用途 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供了一种厚度均匀可控的铜包覆钼复合粉体、制备方法及其用途,该铜包覆钼复合粉体外观为铜红色,其颗粒呈不规则形状或完整球形。该复合粉体为核壳结构,内核为粒度分布均匀的钼,外壳为厚度均匀的铜,钼铜质量比是10~90:90~10。该铜包覆钼复合粉体的制备方法为:将处理后的钼粉加入到镀液中,采用间歇式电镀铜工艺使铜均匀沉积在钼粉表面,将镀后的复合粉体清洗、干燥、还原。本发明通过间歇式电镀的方法制备了铜包覆钼复合粉体,方法简单可靠、易于操作,可以实现电镀速度、镀层厚度、铜含量范围的有效调节,有效地提高了钼铜复合材料综合性能,具有广泛的应用前景,并可用于工业化的大量生产。 | ||
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