一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪
- 申请号:CN201410642859.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN104352214A
- 公开(公开)日:2015.02.18
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 | ||
| 申请号 | CN201410642859.2 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN104352214A | 公开(授权)日 | 2015.02.18 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 张雨东;赵军磊;戴云;杨金生;肖飞;康健;魏淩;赵豪欣;范真涛 |
| 主分类号 | A61B3/12(2006.01)I | IPC主分类号 | A61B3/12(2006.01)I;A61B3/14(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 至一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,属于视网膜成像技术领域。其特征是:在成像光路中的瞳面共轭位置处加入空间光调制器,并在其后光路中的视网膜特定层的共轭位置(焦面)处加入匹配滤波器(滤波光阑)。其工作原理是:通过空间光调制器调制瞳面波前改变焦面处的衍射光场分布,并在焦面处加入匹配的滤波器滤除来自视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜该层的暗场成像,这提高了其相邻层结构的成像对比度。 | ||
交易流程
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专利 -
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