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一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪

  • 申请号:CN201410642859.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN104352214A
  • 公开(公开)日:2015.02.18
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪
申请号 CN201410642859.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN104352214A 公开(授权)日 2015.02.18
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 张雨东;赵军磊;戴云;杨金生;肖飞;康健;魏淩;赵豪欣;范真涛
主分类号 A61B3/12(2006.01)I IPC主分类号 A61B3/12(2006.01)I;A61B3/14(2006.01)I
专利有效期 一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 至一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种波前调制暗场自适应光学视网膜成像仪,属于视网膜成像技术领域。其特征是:在成像光路中的瞳面共轭位置处加入空间光调制器,并在其后光路中的视网膜特定层的共轭位置(焦面)处加入匹配滤波器(滤波光阑)。其工作原理是:通过空间光调制器调制瞳面波前改变焦面处的衍射光场分布,并在焦面处加入匹配的滤波器滤除来自视网膜特定层的衍射光,实现对视网膜该层的暗场成像,这提高了其相邻层结构的成像对比度。

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