专利详情

专利名称	一种用于原位探测激光加热反应器产物的光电离质谱装置
申请号	CN201420547897.5	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN204155900U	公开（授权）日	2015.02.11
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	杨玖重;李玉阳;周忠岳;齐飞;潘洋
主分类号	H01J49/04(2006.01)I	IPC主分类号	H01J49/04(2006.01)I;H01J49/02(2006.01)I;H01J49/26(2006.01)I
专利有效期	一种用于原位探测激光加热反应器产物的光电离质谱装置至一种用于原位探测激光加热反应器产物的光电离质谱装置	法律状态	授权
说明书摘要	本实用新型涉及一种用于原位探测激光加热反应器产物的光电离质谱装置。装置由主腔体、激光器、测温仪、进样机构和质谱仪组成。将激光加热、原位超声分子束取样和真空紫外光电离质谱诊断等技术结合，提供了一种新型的适用压力范围从真空、大气压至高压的热化学反应实验研究技术。其中，利用功率可调的激光对反应基底进行均匀快速加热，缩短了样品反应时间，减少了二次反应；超声分子束取样技术可以“冷却”分子，使得不稳定的中间体得以生存；真空紫外光电离质谱利用真空紫外软电离技术，避免碎片的产生并实时检测反应产物。