一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法
- 申请号:CN201410614079.7
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN104328378A
- 公开(公开)日:2015.02.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 | ||
| 申请号 | CN201410614079.7 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN104328378A | 公开(授权)日 | 2015.02.04 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 裴文俊;刘洪祥 |
| 主分类号 | C23C14/26(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/26(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 至一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法,采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air,制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方,逆向热蒸发;承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆,承载银(Ag)材料的主要部件为钨丝环,保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于钽蒸发舟中;在氮气(N2)环境中蒸发Cr形成CrNx,在氧气(O2)环境中蒸发SiO形成SiOx。本发明具有工艺简单、操作方便、设备与材料成本低的优点,能够规避大型光学元件翻面带来的风险。 | ||
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