专利详情

专利名称	一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法
申请号	CN201410608038.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104326433A	公开（授权）日	2015.02.04
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	邓启凌;张满;史立芳;秦燕云;曹阿秀;庞辉
主分类号	B81B1/00(2006.01)I	IPC主分类号	B81B1/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I
专利有效期	一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法至一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法，属于微纳米结构加工和生物化学领域，按照目标纳流道的分布，设计加工具有纳米微尖的图案化结构作为诱导模板；选择抛光的基片作为纳流道的基底层，在其表面涂覆一层高体积收缩率的高分子聚合物材料；将诱导模板对准压印在聚合物材料膜层上，并对聚合物材料进行固化；由于聚合物材料在固化交联时的体积收缩，微尖纳米结构作为龟裂的外部诱导点，当材料满足体积收缩力大于内部应力时，诱导聚合物材料在固化过程中发生龟裂效应，沿着微尖结构图案形成龟裂通道，实现纳流道的制备。本发明基于纳米压印过程和模板诱导龟裂效应，操作简单、成本低廉、结构可控，在纳米科学和技术研究领域具有广阔的应用前景。