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叉指电容的制备方法及形成相邻的蒸镀图案的方法

  • 申请号:CN201410475485.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
  • 公开(公开)号:CN104319098A
  • 公开(公开)日:2015.01.28
  • 法律状态:实质审查的生效
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专利详情

专利名称 叉指电容的制备方法及形成相邻的蒸镀图案的方法
申请号 CN201410475485.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN104319098A 公开(授权)日 2015.01.28
申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 薛光明;邓辉;田野;刘伟洋;徐晖凯;郑东宁;赵士平
主分类号 H01G4/33(2006.01)I IPC主分类号 H01G4/33(2006.01)I;C23C16/06(2006.01)I
专利有效期 叉指电容的制备方法及形成相邻的蒸镀图案的方法 至叉指电容的制备方法及形成相邻的蒸镀图案的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种叉指电容的制备方法及形成相邻的蒸镀图案的方法。包括用蒸镀材料形成的蒸气在衬底上形成指对;指对形成步骤包括:在衬底上形成一腔室,腔室具有开口和由衬底提供的底壁;对衬底进行第一次蒸镀,使得蒸气沿第一方向进入腔室的内部并形成第一蒸镀膜,第一蒸镀膜的至少一部分形成在底壁上用于形成第一指;对衬底进行第二次蒸镀,使得蒸气经第二方向进入腔室内部并形成第二蒸镀膜,第二蒸镀膜的至少一部分形成在腔室的底壁上以用于形成第二指;第一方向和第二方向选择成使得第一蒸镀膜和第二蒸镀膜在衬底的底壁处横向间隔开。通过蒸镀时调控第一方向、第二方向与竖直面夹角,在避免手指短路的前提下实现了较小的手指间距。

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