
基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统
- 申请号:CN201420462978.5
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
- 公开(公开)号:CN204086126U
- 公开(公开)日:2015.01.07
- 法律状态:授权
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统 | ||
申请号 | CN201420462978.5 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN204086126U | 公开(授权)日 | 2015.01.07 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明(设计)人 | 王玘;袁小文;孙聊新;张波;陆卫 |
主分类号 | G01N21/25(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/25(2006.01)I |
专利有效期 | 基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统 至基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统 | 法律状态 | 授权 |
说明书摘要 | 本专利公开了一种基于显微镜的激光双调制反射光谱检测系统,它包括一根单模光纤、一套成像放大系统、一个半透半反片、一套激光扩束系统、一个低频斩波器、一台激光器、一套显微镜系统和一个高频斩波器。纳米材料激光双调制反射光谱测量由以下部件实现:根据激光双调制工作原理,将高频斩波器调制后的白光源经过显微镜照明系统作为探测光,低频斩波器调制后的激光扩束后作为泵浦光,然后探测光和泵浦光经过同一显微物镜作用于样品表面,单模光纤作为视场光阑放置在二次放大像面处,通过电机控制对样品面进行二维扫描,获得相关光学信号。本专利实现了纳米量级区域的光谱探测,有效地消除了背景反射光的干扰,可以应用于微纳光学领域的光学特征光谱的测量。 |
交易流程
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