基于柱面扫描三维近场成像的反向散射截面测量方法
- 申请号:CN201410429761.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院电子学研究所
- 公开(公开)号:CN104215953A
- 公开(公开)日:2014.12.17
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 基于柱面扫描三维近场成像的反向散射截面测量方法 | ||
| 申请号 | CN201410429761.9 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN104215953A | 公开(授权)日 | 2014.12.17 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院电子学研究所 | 发明(设计)人 | 吕晓德;邢曙光;丁赤飚;林宽 |
| 主分类号 | G01S7/41(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S7/41(2006.01)I;G01S13/89(2006.01)I |
| 专利有效期 | 基于柱面扫描三维近场成像的反向散射截面测量方法 至基于柱面扫描三维近场成像的反向散射截面测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 |
本发明提供了一种基于柱面扫描的三维近场成像的反向散射截面测量方法。该反向散射截面测量方法包括:在所选定的频率范围内,收发天线以一定的步进频率沿设定的圆柱表面进行扫描测试,获得未放置待测目标时和放置待测目标后的散射回波数据;根据未放置待测目标时和放置待测目标后的散射回波数据计算背景对消后待测目标真实的散射回波数据;利用背景对消后待测目标真实的散射回波数据进行三维成像,得到目标的三维雷达散射图像ψe(x,y,z);获得定标体的三维雷达散射图像ψecal(x,y,z);计算出待测目标的目标雷达散射截面RCS值 |
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交易流程
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01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
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05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
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过户资料
平台保障
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